随后将专利拆分为发明专利与实用新型两类分别进行检验，结果如表6所示。研发“粉饰”行为导致专利产出量、有效专利、专利IPC数及专利权利要求数的增加都集中在实用新型专利的结果中，有研发“粉饰”行为的企业相对于没有研发“粉饰”行为的企业实用新型专利申请增长11.9%，有效的实用新型专利增长9.8%，实用新型专利IPC数增长14.9%，实用新型专利引用量增长19.1%。这进一步说明研发“粉饰”行为是较为“短视”的研发活动，H2a得到了证实。其他自变量方面，RD的系数调整异方差后的p值，*、**和***分别代表在10%、5%和1%的水平上双尾显著均显著为正，表明研发费用总体上会带来专利的增加，即专利产出量、有效专利、专利IPC数与专利权利要求数的增加。公司规模（Size）的系数显著为正，表明公司规模越大规模优势越大，专利产出相对较多。现金流的系数大都显著为负，可能的原因是发展较为成熟稳定的公司具有稳定的现金流入，而专利产出相对较少。公司治理因素方面，董事长与总经理两职合一（Dual）的系数均为正，且部分显著。严子淳等研究发现，两职合一有助于促进公司的研发投入，从而导致专利产出的增加。董事会主席或CEO有政治关联（PC）在实用新型结果中均显著为负，说明具有政治关联的企业此类研发成果较少。与此结果较为一致的是，政府干预市场（GovIndex）少，专利产出增加。非国有经济的发展（PriIndex）基本上显著为负，产品市场的发育程度（PdtIndex）在实用新型的结果中显著为正，在发明专利结果中不显著。

本文关注的重点是研发“粉饰”行为带来的实际经济后果，即对组织绩效的影响。检验结果如所示，OverRD对下一年的ROA和ROE均有显著为正的影响，由于表6发现OverRD只对实用新型专利有促进作用，而对发明专利没有作用，因此本文对实用新型专利进行了分组检验，按照LawD分值的高低分为两组（表9）。结果表明，低法制环境下的实用新型各类产出全部显著增加，其中，专利申请Patent的系数0.150（p=0.011）、有效专利ValidPatent的系数0.123（p=0.035）、专利IPC的系数0.177（p=0.008）与引用企业财务绩效和市场绩效的影响，由于组织绩效只有一年后显著，两年以后都没有作用，因此在表10报告的结果中只列示了一年后的组织绩效。结果表明，OverRD对财务绩效ROA/ROE的显著影响全部集中在法制环境低分组中，系数分别为0.004（p=0.062）、0.01（1p=0.029），说明在较差的法制环境中，有研发“粉饰”行为的企业相对于没有研发“粉饰”行为的企业ROA增长0.4%、ROE增长1.1%，验证了假说4b。在因变量为TobinQ时，研发“粉饰”行为的负面影响显著集中在法制环境低分组，说明有研发“粉饰”行为的企业相对于没有研发“粉饰”行为的企业TobinQ降低了11.5%，H4c得到证实。上述结果表明，如果法制环境的外部约束机制较差，研发“粉饰”行为在短期内会提升组织的财务绩效，长期来看却损害了企业的市场绩效。